Shandong Mudong Vacuum Technology Co., Ltd.

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Multi target magnetron sputtering coating equipment

产品描述： High vacuum multi-target sputtering system, which is mainly composed of sputtering chamber, magnetron sputtering target, DC pulse sputtering power supply, automatic matching RF power supply, pulse bia
类型： Magnetron sputtering coating equipment
规格： VIS200/VIS350/VIS500/VIS600
参数： 1.真空腔室腔室尺寸Φ200/Φ350/Φ500/Φ600， 2.真空系统分子泵+直连机械泵+高真空阀门，“3.极限真空空载优于5.0×10-5Pa；4.靶溅射源可选2英寸/3英寸/4英寸/5英寸/6英寸；5、溅射源数量可选1个/2个/3个/4个/5个；6.样品溅射尺寸2英寸/3英寸/4英寸/5英寸/6英寸；
产品详情

可实验膜层种类

1.用于开发纳米级单层、多层及复合膜层；

2.用于制备金属膜、合金膜、半导体膜、陶瓷膜、介质膜、掺杂膜、超导膜、等，例：金、银、铝、铜、镍、铬、镍铬合金、氧化钛、ITO、二氧化硅等；

3. 可用于多靶单独溅射、依次溅射、共同溅射；
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Shandong Mudong Vacuum Technology Co., Ltd.

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Manager Wei   15265561935

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