山东沐东真空科技有限公司

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多靶磁控溅射镀膜设备

产品描述： 高真空多靶溅射系统， 系统主要由溅射室、磁控溅射靶、直流脉冲溅射电源、自动匹配射频电源、脉冲偏压电源、样品台、样品台加热系统、样品冷却系统、真空系统、真空测量系统、气路系统、工控机+液晶屏全自动控制系统等组成
类型： 磁控溅射镀膜设备
规格： VIS200/VIS350/VIS500/VIS600
参数： 1.真空腔室腔室尺寸Φ200/Φ350/Φ500/Φ600， 2.真空系统分子泵+直连机械泵+高真空阀门，“3.极限真空空载优于5.0×10-5Pa；4.靶溅射源可选2英寸/3英寸/4英寸/5英寸/6英寸；5、溅射源数量可选1个/2个/3个/4个/5个；6.样品溅射尺寸2英寸/3英寸/4英寸/5英寸/6英寸；
产品详情

可实验膜层种类

1.用于开发纳米级单层、多层及复合膜层；

2.用于制备金属膜、合金膜、半导体膜、陶瓷膜、介质膜、掺杂膜、超导膜、等，例：金、银、铝、铜、镍、铬、镍铬合金、氧化钛、ITO、二氧化硅等；

3. 可用于多靶单独溅射、依次溅射、共同溅射；
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